רוי מאַטעריאַל צוגרייטונג: די הויפּט רוי מאַטעריאַלס פֿאַר סיליציום מעטאַל זענען סיליציום דייאַקסייד (SiO2) און רידוסינג אגענטן פֿאַר סמעלטינג, אַזאַ ווי נאַפט קאָקס און האָלצקוילן. רוי מאַטעריאַלס דאַרפֿן צו זיין קראַשט, ערד און אנדערע פּראַסעסינג, אין סדר צו פֿאַרבעסערן די אָפּרוף גיכקייַט און רעדוקציע ווירקונג.
סמעלטינג רעדוקציע: נאָך מיקסינג די רוי מאַטעריאַלס, עס איז שטעלן אין אַ הויך טעמפּעראַטור עלעקטריק אויוון פֿאַר סמעלטינג רעדוקציע. אין הויך טעמפּעראַטור, די רידוסינג אַגענט ריאַקץ מיט סיליקאַ צו פּראָדוצירן סיליציום מעטאַל און עטלעכע ביי-פּראָדוקטן, אַזאַ ווי טשאַד מאַנאַקסייד. די מעלטינג פּראָצעס ריקווייערז קאָנטראָל פון טעמפּעראַטור, אַטמאָספער און אָפּרוף צייט צו ענשור גאַנץ אָפּרוף.
צעשיידונג און רייניקונג: נאָך קאָאָלינג, די צעלאָזן פּראָדוקט איז אפגעשיידט און פּיוראַפייד. גשמיות מעטהאָדס, אַזאַ ווי ערלעכקייט צעשיידונג און מאַגנעטיק צעשיידונג, זענען בכלל געניצט צו צעטיילן די סיליציום מעטאַל פון די ביי-פּראָדוקטן. דערנאָך כעמישער מעטהאָדס, אַזאַ ווי זויער וואַשינג און דיסאַלושאַן, זענען געניצט צו באַזייַטיקן ימפּיוראַטיז און פֿאַרבעסערן די ריינקייַט פון סיליציום מעטאַל.
ראַפינירן באַהאַנדלונג: אין סדר צו פֿאַרבעסערן די ריינקייַט און קוואַליטעט פון סיליציום מעטאַל, ראַפינירן באַהאַנדלונג איז אויך פארלאנגט. קאַמאַנלי געוויינט ראַפינירן מעטהאָדס אַרייַננעמען רעדאָקס אופֿן, עלעקטראָליסיס אופֿן און אַזוי אויף. דורך די מעטהאָדס, די ימפּיוראַטיז אין סיליציום מעטאַל קענען זיין אַוועקגענומען, און זייַן ריינקייַט און קריסטאַל סטרוקטור קענען זיין ימפּרוווד.
נאָך די אויבן סטעפּס, די באקומען סיליציום מעטאַל קענען זיין פּראַסעסט אין פּראָדוקטן פון פאַרשידענע שאַפּעס און ספּעסאַפאַקיישאַנז. פּראָסט פּראָדוקטן אַרייַננעמען סיליציום ווייפערז, סיליציום ראַדז, סיליציום פּודער, אאז"ו ו, וואָס זענען געניצט אין עלעקטראָניק, פאָטאָוואָלטאַיקס, זונ ענערגיע און אנדערע פעלדער. אָבער, עס זאָל זיין אנגעוויזן אַז דער פּראָדוקציע פּראָצעס פון סיליציום מעטאַל קען בייַטן לויט צו פאַרשידענע מאַניאַפאַקטשערערז און פּראָדוקט רעקווירעמענץ, און די אויבן סטעפּס זענען בלויז אַ קורץ הקדמה פון די אַלגעמיינע פּראָצעס.
.png)
