Chuẩn bị nguyên liệu: Nguyên liệu chính cho kim loại silicon là silicon dioxide (SiO2) và các chất khử để nấu chảy, chẳng hạn như than cốc và than củi. Nguyên liệu thô cần được nghiền, nghiền và xử lý khác để cải thiện tốc độ phản ứng và hiệu quả khử.
Khử nấu chảy: Sau khi trộn nguyên liệu thô, nó được đưa vào lò điện nhiệt độ cao để khử nấu chảy. Ở nhiệt độ cao, chất khử phản ứng với silica để tạo ra kim loại silicon và một số sản phẩm phụ, chẳng hạn như carbon monoxide. Quá trình nóng chảy đòi hỏi phải kiểm soát nhiệt độ, không khí và thời gian phản ứng để đảm bảo phản ứng hoàn toàn.
Tách và tinh chế: Sau khi làm mát, sản phẩm nóng chảy được tách ra và tinh chế. Các phương pháp vật lý, chẳng hạn như tách trọng lực và tách từ, thường được sử dụng để tách kim loại silicon khỏi các sản phẩm phụ. Sau đó, các phương pháp hóa học, chẳng hạn như rửa và hòa tan bằng axit, được sử dụng để loại bỏ tạp chất và cải thiện độ tinh khiết của kim loại silicon.
Xử lý tinh chế: Để cải thiện hơn nữa độ tinh khiết và chất lượng của kim loại silicon, việc xử lý tinh chế cũng là cần thiết. Các phương pháp tinh chế thường được sử dụng bao gồm phương pháp oxi hóa khử, phương pháp điện phân, v.v. Thông qua các phương pháp này, các tạp chất trong kim loại silicon có thể được loại bỏ, độ tinh khiết và cấu trúc tinh thể của nó có thể được cải thiện.
Sau các bước trên, kim loại silicon thu được có thể được tiếp tục chế biến thành các sản phẩm có hình dạng và thông số kỹ thuật khác nhau. Các sản phẩm phổ biến bao gồm tấm silicon, thanh silicon, bột silicon, v.v., được sử dụng trong điện tử, quang điện, năng lượng mặt trời và các lĩnh vực khác. Tuy nhiên, cần lưu ý rằng quy trình sản xuất kim loại silicon có thể khác nhau tùy theo các nhà sản xuất và yêu cầu sản phẩm khác nhau, và các bước trên chỉ là phần giới thiệu ngắn gọn về quy trình chung.
.png)
